第二輪會議通知 | 2026年HoFCVD薄膜裝備與應用技術大會暨第十二屆全球熱絲CVD大會
- 分類:公司新聞
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- 來源:
- 發布時間:2026-04-02
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【概要描述】2026年HoFCVD薄膜裝備與應用技術大會暨第十二屆全球熱絲CVD大會,將于2026年6月8日 - 9日在中國江西九江盛大啟幕。
第二輪會議通知 | 2026年HoFCVD薄膜裝備與應用技術大會暨第十二屆全球熱絲CVD大會
【概要描述】2026年HoFCVD薄膜裝備與應用技術大會暨第十二屆全球熱絲CVD大會,將于2026年6月8日 - 9日在中國江西九江盛大啟幕。
- 分類:公司新聞
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- 發布時間:2026-04-02
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在人工智能、半導體芯片、新型顯示、新能源、新材料等產業加速向二維及一維技術邁進的過程中,現有CVD、PVD等真空制備技術的瓶頸日益凸顯,亟需新技術的突破與導入。熱絲化學氣相沉積(HoFCVD)技術可實現超低溫鍍膜(<200℃,甚至可低至室溫),兼具零等離子損傷,兼容半導體、無機及有機等多類材料制備的優勢,有望為新一代制造帶來顛覆性變革。
2026年HoFCVD薄膜裝備與應用技術大會暨第十二屆全球熱絲CVD大會,將于2026年6月8日 - 9日在中國江西九江盛大啟幕。屆時,HoFCVD技術開創者松村英樹教授將攜全球二十余國頂尖學者與產業領袖齊聚九江,深度解碼熱絲CVD技術的前沿突破與產業化路徑。這是一場鏈接學術與產業、現在與未來的全球對話。我們誠邀您共赴九江,見證技術變革,共塑薄膜沉積技術新格局。
一、最新議程
會議時間:2026年6月8日-9日
會議地點:江西九江共青城市
會議日程:
2026年6月7日:報到
2026年6月8日:開幕式及主旨報告
2026年6月9日:主旨報告
二、組織單位
1、指導單位
中國真空學會
2、主辦單位
江西漢可智能裝備有限公司
德國于利希研究中心
江蘇省真空學會
南京航空航天大學
3、承辦單位
江西漢可泛半導體技術有限公司
江蘇漢可智能裝備有限公司
山東泓福智能科技有限公司
中國真空學會電子材料與器件專委會
江蘇省真空學會薄膜技術專委會
4、支持單位
南昌交通學院
江西省科學院能源研究所
江西省能源電子裝備產業技術創新戰略聯盟
(持續更新中...)
三、會議主席
名譽主席:
Hideki Matsumura,日本北陸先端科學技術大學院大學,榮休教授
會議主席:
沈鴻烈,南京航空航天大學教授/ 亞太材料科學院院士
同席主席:
黃海賓,江西漢可智能裝備有限公司,董事長、CTO
Alexander Eberst,德國于利希研究中心,研究組長
四、學術委員會
Hideki Matsumura(松村 英樹)- 北陸先端科學技術大學院大學(JAIST),榮休教授,日本
Ruud E.I. Schropp(路德?E.I.?施羅普)- 烏得勒支大學和埃因霍溫理工大學,榮休教授,荷蘭
Sung Gap Im(任成甲) - 韓國科學技術院(KAIST),教授,韓國
Kenneth K. S. Lau(肯尼斯?K.S.?劉)- 羅文大學化學工程系 /亨利·M·羅文工程學院,教授兼系主任,美國
Volker Sittinger(沃爾克?西廷格)- 弗勞恩霍夫表面工程與薄膜研究所金剛石系統與清潔技術系系主任,德國
Christopher Arendse(克里斯托弗?阿倫德斯)- 西開普大學,教授兼研究室主任,南非
Rajiv Dusane(拉吉夫?杜薩內)- 印度理工學院孟買分校(IIT Bombay),教授,印度
Alexander Eberst(亞歷山大?埃伯斯特)- 于利希研究中心硅基異質結太陽能電池,研究組長,德國
Akira Izumi(和泉 亮)- 九州工業大學工學研究院,教授,日本
Shinya Ohmagari(大曲 新矢)- 產業技術綜合研究所(AIST)先進功率電子研究中心(ADPERC),教授,日本
Keisuke Ohdaira(大平 圭介)- 北陸先端科學技術大學院大學(JAIST),教授,日本
Yujun Shi(侍育君)- 卡爾加里大學,教授,加拿大
沈鴻烈 - 南京航空航天大學,教授 / 亞太材料科學院,院士
劉正新 - 中科院上海微系統與信息技術研究所,研究員,中國
廖良生 - 蘇州大學,教授 / 俄羅斯工程院外籍院士 / 江蘇省產業技術研究院有機光電技術研究所,執行所長,中國
麥耀華 - 暨南大學 新能源技術研究院院長 / 廣東脈絡能源科技有限公司創始人、董事長,中國
魏秋平 - 中南大學教授 / 湖南新鋒科技有限公司創始人、董事長,中國
賈 銳 - 西安交通大學,教授,中國
孫方宏 - 上海交通大學,教授,中國
高平奇 - 中山大學,教授,中國
張金燦 - 蘇州大學,教授,中國
王學文 - 西北工業大學 ,教授,中國
張鳳鳴 - 南京大學,教授,中國
吳 堅 - 阿特斯嘉興研究院院長,中國
劉正龍 - 深圳市華星光電技術有限公司技術專家,中國
五、重磅嘉賓

(持續更新中...)
六、征文范圍
(1)基礎:氣體化學、表面化學、反應機理、催化研究、分析診斷、建模、模擬;
(2)工藝:HoFCVD、Cat-CVD、iCVD、氧化CVD、等離子體輔助熱絲化學氣相沉積、熱絲輔助原子層沉積;
(3)材料:硅基類、碳基類、半導體、金屬、氧化物、氮化物、高分子、有機物、復合材料;
(4)結構:薄膜、涂層、多層膜、復合膜、顆粒、粉末、納米結構;
(5)應用:能源捕獲材料、能量存儲器件、光伏電池與組件、光熱應用、電光轉換器件、電化學電池、制氫技術、電子器件、光電子器件、生物技術、水處理技術、屏障層、蝕刻技術、表面改性技術,環境監測,傳感材料,資源利用,磁電材料,量子點材料,低維材料、節能技術;
(6)商業化:放大生產、技術轉移、工業設計、工業系統。
七、投稿及報告要求
(1)征集范圍:
凡是大會主題范圍內的論文或研究報告,均可投稿。
(2)投稿須知:
>> 報告語言支持中文或英文。
>> 稿件經評審入選后,統一安排現場報告與交流。
>> 報告將由評審委員會進行評審。
>> 請以演示文檔(ppt / pptx)形式提交報告。
>> 報告篇幅通常為20頁- 28頁。
>> 報告中應有中/英文摘要和關鍵詞。
>> 如無特殊說明,錄用通知將發送給第一作者與投稿人。
>> 口頭報告時間20-30分鐘,包括5分鐘現場問答。
(3)投稿方式:
2026年4月25日前,通過郵箱或二維碼,反饋報名與摘要;
2026年5月20日前,通過郵箱提供報告用PPT。
(4)投稿郵箱:honglie.shen@hactech.cn。
八、會議贊助
本次大會匯聚全球業界精英,聚焦前沿技術與產業未來,是彰顯品牌實力、鏈接國際資源、拓展全球視野的高端平臺。
會議誠摯歡迎各界的贊助與合作,共筑行業新局,共創長遠價值。大會提供如下服務:
1、與大咖同臺專場報告機會;
2、公司廣告頁編入會議手冊;
3、提供現場宣傳展示區;
4、享有大會專訪機會;
5、提供大會專屬紀念品;
6、贊助方冠名宣傳。
九、在線報名
本次大會報名免注冊費,演講名額有限,期待您的深度參與。如有意向參會,請通過識別以下二維碼進行在線報名。
聯系人:康先生,17788770637(微信同號)。

十、時間節點
遞交摘要截止:2026年4月25日
錄 用 通 知:2026年5月10日
終稿提交截止:2026年5月20日
11聯系我們
主 辦 方 :江西漢可智能裝備有限公司
聯系電話:17788770637(康先生)
15162782562(李女士)
地 址 :江西省九江市共青城市高新區火炬五路
十二、到達會場
會場地點:共青城市格蘭云天國際酒店(共青城市富華大道169號,富華大道與高爾夫大道交匯處)
各位可以通過飛機、高鐵、動車等到達南昌站、南昌西站、南昌東站、九江站、共青城站,或通過自駕到達共青城市會場,前者可以參考下方內容,選擇和完善您的行程。
1、南昌昌北機場(飛機到)
- 最省事:機場坐定制大巴到共青城汽車站(約70分鐘、40元),再打車到酒店(10分鐘、15元)
- 最快:機場打車/網約車直達酒店(約50分鐘、180-220元)
- 省錢:機場坐地鐵/公交到南昌西站,再轉高鐵到共青城站(全程約1.5小時)
2、南昌西站(高鐵/動車到)
- 首選:站內直接買南昌西→共青城高鐵/動車(28-35分鐘、22-25元),到共青城站后打車10分鐘、15元到酒店(富華大道169號)
- 直達:打車/網約車(約1小時、150-180元)
3、南昌站(老火車站)
首選:站內買南昌→共青城動車(40分鐘、22元),到共青城站后打車到酒店備選:坐地鐵2號線到南昌西站,再轉高鐵去共青城站,再打車前往酒店會場。
4、南昌東站(新東站)
先坐地鐵/公交到南昌西站(約40分鐘),再買高鐵到共青城站(無南昌東直達),最后打車到酒店直達:打車/網約車(約1.2小時、200元)
5、九江站(九江方向來)
首選:站內買九江→共青城高鐵/動車(25-30分鐘、20元),到共青城站后打車到酒店直達:打車/網約車(約40分鐘、100-120元)
6、共青城站(已到共青城)
出共青城站直接打車(網約車,6公里、10分鐘、15元),導航“共青城格蘭云天國際酒店(富華大道169號)”。

十三、往屆回顧





END
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